Technique de croissance épitaxiale de semiconducteurs :

·         Épitaxie par jets moléculaires de matériaux III-V (EJMSS)

 

Expérience en salle blanche (microfabrication) :

·         Lithographie électronique (EBL)

·         Lithographie optique

·         Techniques de dépôt/gravure sèche : PECVD,  RIE, ICP,  pulvérisation cathodique, évaporation, plaquage

·         Bancs humides ; gravure humide, préparation de surface, etc.

 

Techniques de caractérisation: 

·         Reflection of High Energy Electron Diffraction (RHEED)

·         Microscopie à Force Atomique (AFM)

·         Microscopie Electronique à Balayage  (MEB)

·         X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS)

·         Double Diffraction de rayons X (DDX)

·         Ellipsométrie

·         Mesures électriques

·         Profilométrie de surface

·         Photoluminescence (PL)

 

Langues

 

·         polonais (langue maternelle)

·         anglais  (lu, écrit, parlé)

·         français  (lu, écrit, parlé)

 

 

 

Dr Artur Turala

Compétences

 

 

 

 

                                                                                                                                                Mis à jour : 06/06/2010